本报讯（融媒体中心记者 方针）4月20日，记者从北方华创了解到，公司THEORIS SN302D型12英寸氮化硅沉积设备近日成功搬入国内集成电路制造龙头企业。该设备的交付，意味着国产立式LPCVD设备在先进集成电路制造领域的应用拓展上实现重大进展。

　　据介绍，氮化硅（Si3N4）薄膜是一种应用广泛的介质材料。作为非晶绝缘物质，氮化硅膜的介质特性优于二氧化硅膜，具有对可动离子阻挡能力强、结构致密、针孔密度小、化学稳定性好、介电常数高等优点，常用于集成电路制造中的介质绝缘、杂质掩蔽、浅沟道隔离、掩膜、外层钝化保护等工艺。作为一种性能优良的重要介质材料，在集成电路制造领域，氮化硅薄膜广泛使用LPCVD类型设备制备，而颗粒控制水平是设备能力的一项重要指标。

　　北方华创在氮化硅工艺设备THEORIS SN302D的开发过程中，通过整合已有产品平台技术，针对性地研发了快速升降温加热技术和炉口气流优化技术，较好地解决了氮化硅工艺过程中颗粒控制不稳的技术性难题。并在满足常规生产能力的基础上，为提升客户使用的附加价值，进一步开发了长恒温区反应腔室设计，实现了高产能的硬件技术解决方案，匹配市场的多样化需求。